Résumé:
Dans ce travail, on s’est intéressé à l’identification des paramètres influant sur le
processus de dépôt par pulvérisation ionique dans différents matériaux photovoltaïques.
L’outil utilisé dans l’étude, est le logiciel de simulation SRIM ; D'après les résultats obtenus,
le rendement de pulvérisation évolue proportionnellement avec l'angle et l’énergie
d'incidence jusqu’à une certaine valeur, ensuite il diminue. La différence des valeurs
obtenues dans les matériaux considérés, a confirmé l’étroite relation entre le processus de
pulvérisation et la structure du matériau à pulvériser.
Lors du calcul des pouvoirs d’arrêt électronique et nucléaire, les mêmes observations
ont étés constatées ; Ajouter à ceci, l’influence de la nature du faisceau d’ions utilisé pour
pulvériser le matériau, observé durant la comparaison des résultats obtenus à partir d’ions
argon et ceux obtenus à partir d’ions néon.