Dépôt Institutionnel Université de Jijel
L'effet du traitement thermique sous atmosphère oxydante sur la localisation des dopants dans des films minces de Si-LPCVD.
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| dc.contributor.author | Kadjoudj, Mouhssen | |
| dc.contributor.author | Medjemem, Daoud | |
| dc.contributor.author | Merabet, Souad (Encadreur) | |
| dc.date.accessioned | 2023-02-19T14:17:28Z | |
| dc.date.available | 2023-02-19T14:17:28Z | |
| dc.date.issued | 2014 | |
| dc.identifier.uri | http://dspace.univ-jijel.dz:8080/xmlui/handle/123456789/12478 | |
| dc.description | Option: Microélectronique | fr_FR |
| dc.language.iso | fr | fr_FR |
| dc.publisher | Université de Jijel | fr_FR |
| dc.title | L'effet du traitement thermique sous atmosphère oxydante sur la localisation des dopants dans des films minces de Si-LPCVD. | fr_FR |
| dc.type | Thesis | fr_FR |
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Mémoires de Master [389]