Dépôt Institutionnel Université de Jijel

L'effet de l'épaisseur d'oxyde sur la fiabilité de la technologie MOS.

L'effet de l'épaisseur d'oxyde sur la fiabilité de la technologie MOS.

Ghiad, Halima; Merabet, Souad (Encadreur)
URI: http://dspace.univ-jijel.dz:8080/xmlui/handle/123456789/13417
Date: 2013

Description:

Option: Microélectronique

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Nom: M-ELE.MIC-2013-04.pdf
Taille: 32.14Mo
Format: PDF
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