Dépôt Institutionnel Université de Jijel
L'effet de l'épaisseur d'oxyde sur la fiabilité de la technologie MOS.
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| dc.contributor.author | Ghiad, Halima | |
| dc.contributor.author | Merabet, Souad (Encadreur) | |
| dc.date.accessioned | 2023-10-25T12:29:31Z | |
| dc.date.available | 2023-10-25T12:29:31Z | |
| dc.date.issued | 2013 | |
| dc.identifier.uri | http://dspace.univ-jijel.dz:8080/xmlui/handle/123456789/13417 | |
| dc.description | Option: Microélectronique | fr_FR |
| dc.language.iso | fr | fr_FR |
| dc.publisher | Université de Jijel | fr_FR |
| dc.title | L'effet de l'épaisseur d'oxyde sur la fiabilité de la technologie MOS. | fr_FR |
| dc.type | Thesis | fr_FR |
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