Dépôt Institutionnel Université de Jijel

Caractéristiques des films minces Si-LPCVD Oxydés thermiquement et dopé in-situ au bore

Caractéristiques des films minces Si-LPCVD Oxydés thermiquement et dopé in-situ au bore

Mellit, Ghania; Merabet, Souad (Encadreur)
URI: http://dspace.univ-jijel.dz:8080/xmlui/handle/123456789/14570
Date: 2012

Description:

Option: Microélectronique

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Nom: M-ELE.MIC-2012-01.pdf
Taille: 30.37Mo
Format: PDF
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